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场发射扫描电镜

蔡司系列场发射扫描电镜(FE-SEM)拥有先进的显微分析技术。该系列电镜采用配有in-lens二次电子探测器的GEMINI 镜筒,能够提供出色的分辨率、衬度和亮度,适用于样品形貌的清晰成像。低电压成像技术,满足对导电及非导电样品在电镜下的直接观察。
GEMINI镜筒是蔡司系列场发射扫描电镜的核心部件。
GEMINI镜筒的设计可提供超低电压成像和稳定性。实现工作流程之间的无缝集成,图像导航软件集成至扫描电镜使用的图形化用户界面 SmartSEM 中。这样,在数字化概览图像的协助下,更有利于对样品室中的样品进行导航、定向和定位。
数量:
  • Sigma 300
  • 森沃斯

Sigma 300

场发射扫描电镜

蔡司公司推出Sigma 300场发射扫描电镜采用成熟的Gemini电子光学系统设计,将低电压成像技术发挥到了极致,采用 适宜的探针电流范围,信噪比相对原先的扫描电镜提升了50%,使电镜在极限条件下的成像质量提高了85%。Sigma300将 分析性能与场发射扫描技术相结合,多种探测器可选:用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma 自动的四步工作流程大 大节省了设置与分析操作的时间,提高效率。

技 术 参 数 

分辨率: 1.0nm (15kV)  1.6nm (1kV) 

放大倍数:10-1,000,000× 

加速电压:0.02-30kV(无需减速模式实现) 

探针电流:3 pA-20 nA(100 nA 可选) 

稳定性:优于0.2%/h 样品室:365mm( )×275mm(h) 

样品台:5轴优中心全自动

 X=125mm Y=125mm Z=50mm T=-10°~90° R=360°(连续) 

系统控制:基于Windows 10 的SmartSEM操作系统,可选鼠标、键盘、控制面板控制

场发射扫描电镜

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